快速熱退火 | 連鎖超商/餐飲業者
快速熱退火(RTA)技術指的是將晶片從環境溫度快速加熱至約1000–1500K,晶片達到該溫度後會保持幾秒鐘,...這種技術的優點是能實現薄膜大面積化,且工藝簡單。
快速熱退火 (RTA)技術指的是將晶片從環境溫度[1]快速加熱至約1000–1500K,晶片達到該溫度後會保持幾秒鐘,然後完成淬火[2]。這種技術主要被套用於薄膜電晶體[3] 、太陽電池[4]等器件生產過程中的摻雜、點缺陷退火、雜質激活等高溫( >700 ℃)過程。在低溫器件,如玻璃襯底的多晶矽薄膜太陽電池套用中也具有很大的潛力 。 固相晶化非晶矽[5] (a- S i)薄膜法是一種最常見的間接製備多晶矽薄膜方法 。這種技術的優點是能實現薄膜大面積化,且工藝簡單 。但傳統的電熱爐退火進行固相晶化時,晶化時間長達幾個至幾十個小時,耗能及製造成本高 。而採用 RTA,在較高溫度下幾分鐘內就可使非晶矽晶化,而且晶化後的多晶矽膜缺陷較少、內應力小。 References 環境溫度 (www.newton.com.tw) 淬火 (www.newton.com.tw) 薄膜電晶體 (www.newton.com.tw) 太陽電池 (www.newton.com.tw) 非晶矽 (www.newton.com.tw)
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以快速熱退火法加強金屬側向誘發結晶速率之研究 | 連鎖超商/餐飲業者
另外ELA 還有一個優點是能夠成長出結晶性很好的複晶矽,有. 5. Page 18. 很少的缺陷,因此成為目前部分工業界製作LTPS 採用的製程方法。 圖1-3 準分子雷射退火法步驟圖[1]. Read More
快速退火 | 連鎖超商/餐飲業者
快速熱退火是用各種熱輻照源,直接照射在樣品表面上,迅速將樣品加熱至700~1200℃左右在幾秒~幾十秒的時間內完成退火。它與常規熱退火相比,有下列優點:樣品在相同的 ... Read More
退火爐的原理 | 連鎖超商/餐飲業者
(解答). RTA(Rapid Thermal annealing) 快速熱退火處理系統,主要是利用快速升降溫的方式對晶片 ... Read More
快速熱退火 | 連鎖超商/餐飲業者
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退火 | 連鎖超商/餐飲業者
退火(Annealing),在冶金學或材料工程,是一種改變材料微結構且進而改變如硬度和強度等機械性質 ... 完全退火程序相當耗時,优点是可获得具有小晶粒和均勻的顯微晶粒結構。 Read More
使用雷射退火之鍺基底N 型 | 連鎖超商/餐飲業者
的雷射退火製程(laser annealing)取代高溫的爐管快速退火製程RTA 製程,以改善 ... 熱退火法就是所謂的RTA 快速退火,其優點在於能使晶圓快速升溫後再快速降溫,. Read More
5 Thermal Processes | 連鎖超商/餐飲業者
說明在高溫爐下RTP(快速加熱製程)的優 ... 碳化矽爐管. • 優點. – 較高的熱穩定度. – 較佳的金屬離子屏蔽. • 缺點 ... 對超薄閘極氧化層的快速加熱氧化及退火. Read More
「快速熱退火原理」懶人包資訊整理 (1) | 連鎖超商/餐飲業者
快速熱退火原理資訊懶人包(1),,,生長時間,原理主要是藉由鎳與矽(Si)之間的反應 ... 熱退火法就是所謂的RTA 快速退火,其優點在於能使晶圓快速升溫後再快速降溫,. Read More
快速升溫製程處理(RTP) | 連鎖超商/餐飲業者
退火產品廣泛應用於半導體元件製造,目的是改變材料的電性或物理特性(電導率、介電常數、緻密化或減少污染)。 以長溫退火、瞬間退火、毫秒級退火、和自由基熱氧化製程作 ... Read More
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